磁力拋光機(jī)的光刻工序是極為重要的,，你知道其主要作用工序嗎,？下面我們一起來探討一下吧。
光刻過程,其主要工序如下,。
1.涂膠
把光致抗蝕劑(俗稱光刻膠)涂敷在半導(dǎo)體基片的氧化膜上的過程稱為涂膠,。光刻膠可分為正性膠和負(fù)性膠,在顯影圖中被光照部分的膠層被去除,形成“窗口”,為負(fù)性膠,反之為正性膠。涂膠要求薄厚均勻,常用的涂膠方法有旋轉(zhuǎn)(離心)甩涂,、浸漬,、噴涂和印刷等,有專門設(shè)備。
2.曝光
利用光源發(fā)出的光束,經(jīng)工作掩膜在光致抗蝕劑涂層成象,即為曝光,。這種曝光稱為投影曝光,又稱為復(fù)印,。常用的光源有電子束、X射線,、遠(yuǎn)紫外線(準(zhǔn)分子激光),、離子束等。從投影方式上可分為接觸式,、接近式反射式等,。上述的原版就是用于投影曝光的。還有一種曝光是將光束聚焦形成細(xì)小束斑,通過數(shù)控掃描,在光致抗蝕劑涂層上繪制圖形,稱為掃描曝光,又稱為寫圖,。這種曝光不需預(yù)制工作原版,但要設(shè)計編制掃描軌跡程序,。常用的光源有電子束、離子束上述兩種曝光方式統(tǒng)稱為哪光
3.顯影與烘片
(1)顯影曝光后的光致抗蝕劑,其分子結(jié)構(gòu)產(chǎn)生化學(xué)變化,在特定溶劑或水中的溶解度也不同,利用曝光區(qū)和非曝光區(qū)的這一差異,可在特定溶劑中把曝光圖形呈現(xiàn)出來,這就是顯影,。
(2)烘片有些光致抗蝕劑在顯影干燥后,要進(jìn)行200℃~250℃的高溫處理,使它發(fā)生熱聚合作用,以提高強(qiáng)度,稱為烘片
4.刻蝕
利用化學(xué)或物理方法,將沒有光致抗蝕劑部分的氧化膜去除,稱之為刻蝕,。刻蝕的方法很多,有化學(xué)刻蝕,、離子刻蝕,、電解刻蝕等
刻蝕不僅是沿厚度方向,而且也可沿橫向進(jìn)行,稱之為側(cè)面刻蝕。若以表示側(cè)面刻蝕量,以h表示刻蝕深度,則刻蝕系數(shù)=h/,。側(cè)面刻蝕越小,刻蝕系數(shù)越大,制品尺寸精度就越高,精度穩(wěn)定性也越好,。由于有側(cè)面刻蝕現(xiàn)象,使刻蝕成的窗口比光致抗蝕劑窗口大,，因此在設(shè)計時要進(jìn)行修正。
5.剝膜與檢查
(1)剝膜 用剝膜液去除光致搞蝕劑的處理稱為剝膜,。
(2)檢查 剝膜后,，將工件洗凈、修整,，進(jìn)行外觀,、線條尺寸、間隔尺寸,、斷面形狀,、物理性能、電學(xué)性能等質(zhì)量檢查,。
以下就是磁力拋光機(jī)的光刻工序的主要步驟,，希望對你有所幫助。
